ICP-RIE

Gravure ionique réactive - technique de gravure sèche des semi-conducteurs. L'article "ICP-RIE" sur Wikipédia en finnois a 14.9 points pour la qualité (au 1 août 2024). L'article contient 6 références et 2 sections.

Cet article a la meilleure qualité sur Wikipédia en ukrainien. Cependant, la version linguistique la plus populaire de cet article est la langue anglais.

Depuis la création de l'article "ICP-RIE", son contenu a été rédigé par 7 utilisateurs enregistrés de Wikipédia en finnois et édité par 140 utilisateurs Wikipédia enregistrés dans toutes les langues.

L'article est cité 1 fois dans Wikipédia en finnois et cité 165 fois dans toutes les langues.

Le rang d’intérêt des auteurs le plus élevé depuis 2001:

• Local (finnois): n° 4407 en novembre 2009
• Mondial: n° 53718 en juillet 2003

Le classement de popularité le plus élevé depuis 2008:

• Local (finnois): n° 39327 en novembre 2013
• Mondial: n° 148935 en avril 2016

Il existe 10 versions linguistiques pour cet article dans la base de données WikiRank (sur les 55 éditions linguistiques Wikipédia considérées).

L'évaluation de la qualité et de la popularité est basée sur les dumps Wikipédia du 1 août 2024 (y compris l'historique des révisions et les pages vues des années précédentes).

Le tableau ci-dessous présente les versions linguistiques de l'article de la plus haute qualité.

#	Langue	Niveau de qualité	Score de qualité
1	ukrainien (uk) Реактивне іонне травлення		22.946
2	anglais (en) Reactive-ion etching		20.1803
3	catalan (ca) Gravat d'ions reactius		19.818
4	russe (ru) Реактивное ионное травление		16.6712
5	finnois (fi) ICP-RIE		14.8785
6	français (fr) Gravure ionique réactive		13.4373
7	allemand (de) Plasma-unterstütztes Ätzen		13.4118
8	persan (fa) زدایش یون-غیرفعال		11.7042
9	japonais (ja) 反応性イオンエッチング		5.5481
10	chinois (zh) 反应离子刻蚀		5.4406

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Le tableau suivant présente les versions linguistiques les plus populaires de l'article.

Les versions linguistiques les plus populaires de l'article "ICP-RIE" dans tout le temps

#	Langue	Prix de popularité	Popularité relative
1	anglais (en) Reactive-ion etching		639 361
2	japonais (ja) 反応性イオンエッチング		226 882
3	chinois (zh) 反应离子刻蚀		94 051
4	allemand (de) Plasma-unterstütztes Ätzen		64 627
5	français (fr) Gravure ionique réactive		46 889
6	russe (ru) Реактивное ионное травление		33 650
7	finnois (fi) ICP-RIE		5 936
8	persan (fa) زدایش یون-غیرفعال		5 208
9	ukrainien (uk) Реактивне іонне травлення		276
10	catalan (ca) Gravat d'ions reactius		107

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Le tableau suivant présente les versions linguistiques de l'article le plus populaire au cours du mois dernier.

Les versions linguistiques les plus populaires de l'article "ICP-RIE" en juillet 2024

#	Langue	Prix de popularité	Popularité relative
1	anglais (en) Reactive-ion etching		1 666
2	chinois (zh) 反应离子刻蚀		563
3	japonais (ja) 反応性イオンエッチング		448
4	allemand (de) Plasma-unterstütztes Ätzen		256
5	russe (ru) Реактивное ионное травление		131
6	français (fr) Gravure ionique réactive		103
7	persan (fa) زدایش یون-غیرفعال		11
8	ukrainien (uk) Реактивне іонне травлення		6
9	catalan (ca) Gravat d'ions reactius		3
10	finnois (fi) ICP-RIE		1

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Le tableau suivant présente les versions linguistiques de l'article présentant le plus grand intérêt des auteurs.

Versions linguistiques de l'article "ICP-RIE" présentant le plus grand intérêt des auteurs. Seuls les utilisateurs enregistrés de Wikipédia ont été comptés.

#	Langue	Prox de IA	IA relatif
1	anglais (en) Reactive-ion etching		43
2	allemand (de) Plasma-unterstütztes Ätzen		29
3	français (fr) Gravure ionique réactive		25
4	japonais (ja) 反応性イオンエッチング		15
5	persan (fa) زدایش یون-غیرفعال		7
6	finnois (fi) ICP-RIE		7
7	chinois (zh) 反应离子刻蚀		6
8	russe (ru) Реактивное ионное травление		5
9	catalan (ca) Gravat d'ions reactius		2
10	ukrainien (uk) Реактивне іонне травлення		1

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Le tableau suivant montre les versions linguistiques de l'article ayant suscité le plus grand intérêt des auteurs au cours du mois dernier.

Versions linguistiques de l'article "ICP-RIE" présentant le plus grand intérêt des auteurs en juillet 2024

#	Langue	Prox de IA	IA relatif
1	japonais (ja) 反応性イオンエッチング		1
2	catalan (ca) Gravat d'ions reactius		0
3	allemand (de) Plasma-unterstütztes Ätzen		0
4	anglais (en) Reactive-ion etching		0
5	persan (fa) زدایش یون-غیرفعال		0
6	finnois (fi) ICP-RIE		0
7	français (fr) Gravure ionique réactive		0
8	russe (ru) Реактивное ионное травление		0
9	ukrainien (uk) Реактивне іонне травлення		0
10	chinois (zh) 反应离子刻蚀		0

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Le tableau suivant présente les versions linguistiques de l'article avec le plus grand nombre de citations.

Versions linguistiques de l'article "ICP-RIE" avec l'indice de citation (IC) le plus élevé

#	Langue	Prix ​​de IC	IC relatif
1	anglais (en) Reactive-ion etching		47
2	japonais (ja) 反応性イオンエッチング		26
3	allemand (de) Plasma-unterstütztes Ätzen		23
4	français (fr) Gravure ionique réactive		21
5	persan (fa) زدایش یون-غیرفعال		16
6	russe (ru) Реактивное ионное травление		14
7	catalan (ca) Gravat d'ions reactius		7
8	ukrainien (uk) Реактивне іонне травлення		5
9	chinois (zh) 反应离子刻蚀		5
10	finnois (fi) ICP-RIE		1

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#	Langue	Valeur
ca	catalan Gravat d'ions reactius
de	allemand Plasma-unterstütztes Ätzen
en	anglais Reactive-ion etching
fa	persan زدایش یون-غیرفعال
fi	finnois ICP-RIE
fr	français Gravure ionique réactive
ja	japonais 反応性イオンエッチング
ru	russe Реактивное ионное травление
uk	ukrainien Реактивне іонне травлення
zh	chinois 反应离子刻蚀

Meilleur rang

finnois: n° 39327 11.2013

Mondial: n° 148935 04.2016

Meilleur rang

finnois: n° 4407 11.2009

Mondial: n° 53718 07.2003

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